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나노물질

나노물질 대량 생산 가능한 저온 디지털 공정기술 기존 나노물질 합성과 패터닝 공정은 높은 온도에서 폭발성 혹은 독성이 있는 위험한 기체를 사용해 성장시키고, 복잡한 정렬방법을 이용해 특정 위치에 조립해야 하는 번거로운 과정이 필요했습니다. 따라서 다단계의 공정과 고비용, 비환경적인 특성 때문에 나노소자의 대량생산과 상용화에 큰 걸림돌이 되었습니다. 또한 기존 공정은 약 1000℃의 높은 온도와 부식성이 강한 화학약품을 사용하기 때문에 플라스틱과 같은 저렴하면서도 유연한 기판을 이용하는데 제약이 있었습니다. 새로운 개념의 저온 디지털 나노물질 패터닝 공정기술이 개발되어, 나노물질의 선택적인 합성과 패터닝 공정의 획기적인 단축으로 나노소자 상용화에 한걸음 다가서게 되었습니다. ■ KAIST 고승환 교수팀은 한 번의 공정으로 원하는 위치에 나노물질을 직접 .. 더보기
상온 그래핀 직접 합성법 개발 2004년 자연광물인 흑연에서 떼어낸 ㎛(100만분의 1미터) 크기의 그래핀 조각이 매우 우수한 물리적 전기적 특성을 지닌다는 사실이 발견되어 실리콘을 대체할 차세대 나노물질로 떠올랐으나, 이 방법으로 얻은 그래핀 조각은 크기가 너무 작고 모양이 불규칙하여 실생활에 직접 응용할 수 없었습니다. 이런 가운데 2009년 화학기상증착법(CVD: Chemical Vapor Deposition)이라는 새로운 기법으로 금속기판 위에 ㎝ 크기의 그래핀을 합성할 수 있다는 사실이 실험적으로 증명되었고, 지난 2010년에는 넓은 면적(30인치)의 그래핀을 합성하여 투명전극으로 응용할 수 있음이 확인됐습니다. 그러나 CVD로 그래핀을 합성하려면, 먼저 1000℃에서 금속기판 위에 그래핀을 합성한 후 원하는 기판으로 전사하.. 더보기